Uudised

Allpool tutvustame üksikasjalikult TFT LCD-ekraani erinevaid omadusi:

(1) Suuremahuline: esimese põlvkonna suuremahuline klaassubstraat (3000 mm x 400 mm) TFT 1990. aastate alguses, klaassubstraadi pindala laienes 2000. aasta esimesel poolel 6800 mm x 880 mm-ni ja kasutusele on võetud ka 950 mm x 1200 mm klaasalus. hiljuti.

(2) Kõrge integreeritus: LCD projektsiooniga 1,3-tollise TFT-ekraani kiibi eraldusvõime on XGA, mis sisaldab miljoneid piksleid. Resolutsioon on. SXGA (1280x1024) 16,1-tollise TFT amorfse räni kile paksus on vaid 50 nanomeetrit. TABONGLAS ja SYSTEMONGLASS tehniline integratsioon, tehnilised nõuded seadmetele ja tarnimisele ning tehnilised raskused on kõrgemad kui traditsioonilisel LSI-l.

(3) Täielikud funktsioonid: TFT vedelkristallkuvarit kasutati algselt maatriksi aadressi valimise ahelana, mis parandas vedelkristallvalgusklapi omadusi. Kõrge eraldusvõimega kuvarite puhul saab vedelkristallekraan saavutada kvaliteetse ja kõrge eraldusvõimega kuva, reguleerides pinget vahemikus 0–6 kuvari V (selle tüüpiline väärtus on 0,2–4 V) ja sihtelementi õigesti reguleerides.

(4) Madalad kulud: klaas- ja plastsubstraadid lahendavad põhimõtteliselt suuremahuliste pooljuhtide integraallülituste kuluprobleemi ja avavad laiaulatusliku rakendusruumi suuremahuliste pooljuhtide integraallülituste kasutamiseks.

(5) Protsessi paindlikkus: lisaks pihustamisele, laserlõõmutamise tehnoloogiale saab CVD (keemiline aurustamine-sadestamine) MCVD valida lisaks traditsioonilisele kile moodustamisele, näiteks molekulaarsele keemilisele aurustamise-sadestamisele, amorfse kile, mitme toote kile ja ühe toote kile. Mitte ainult ei saa teha ränikilet, vaid ka muid asju. I-VI ja tetra-V pooljuhtkiled.

Üldistes rakendusvaldkondades on TFT-tehnoloogial põhinev vedelkristallekraan infoühiskonna tugisambaks ja seda saab kasutada ka õhukese kiletransistoride kiireks arendamiseks. (TFT-OLED) lameekraan.